ナノインプリントリソグラフィー（NIL）

ナノインプリントリソグラフィー、NIL（Nanoimprint Lithography）とは、ナノオーダーの微細パターンの型押しによる接触型の転写技術。
ナノスケールの立体構造物を大量生産するのに適する一方で、継続した品質を得るために系内から異物を排除する事が求められ、
同じ微細パターンを非接触で光学的作用により形成するフォトリソグラフィーと比較すると難易度が高いと言われる。