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ナノインプリントリソグラフィー、NIL(Nanoimprint Lithography)とは、ナノオーダーの微細パターンの型押しによる接触型の転写技術。 ナノスケールの立体構造物を大量生産するのに適する一方で、継続した品質を得るために系内から異物を排除する事が求められ、 同じ微細パターンを非接触で光学的作用により形成するフォトリソグラフィーと比較すると難易度が高いと言われる。